新聞中心
  聯係线上AG试玩

    電 話:0752-2123518
    傳 真:
    0752-2127518
    業務部:13421663186李先生
    Q  Q: 81208555
    業務部:13433496488酒先生
    技術部:18003063068李先生
    Q  Q:3139057056
    郵  箱:mingshenghz@sina.com
    主  頁:http://www.ag0692.com
    地  址:惠州市東江工業區
    河南鄭州分公司:
    電  話:18530091020
    聯係人:朱淮江
    Q  Q:849666789
    地  址:河南省 鄭州市 鄭東新區 6號院6號樓4單元1樓38號

  新聞中心

真空在鍍膜中的應用

添加時間:2016-03-23 10:17:55    查看:

真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支,它已廣泛地應用於光學、電子學、能源開發,理化儀器、建築機械、包裝、民用製品、表麵科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表麵的物理、化學性能的話,這一技術又是真空表麵處理技術中的重要組成部分,其分類如表 6 所示。

                                                    表 6 真空表麵處理技術的分類

 

表麵處理目的

處理方法

粒子運動能量

工作方式

等離子體

高真空

薄膜沉積(表麵厚度增加)

PVD

真空蒸發鍍膜

0.1~1ev

等離子熔射輝光放電分解

電阻加熱蒸發

加子束蒸發

真空電弧蒸發

真空感應蒸發

分子束外延

蔗農濺射鍍膜

10~100ev

放電方式:直流、交流、高頻

電極數值: 2 級、 3 級、 4 級

反應濺射、磁控濺射、對向靶濺射

離子束濺射鍍膜

真空離子鍍膜

數 10~5000ev

直流二級型

多陰極型

ARE 型、增強 ARE

HCD 型

高頻型

單一離子束鍍膜

集團離子束鍍膜

CVD

化學反應熱擴散

等離子增強化學氣和沉積( PCVD )

低壓等離子化學氣相沉積

( LPCVD )

微細加工(表麵厚度減少)

離子刻蝕

數百 ev~ 數 kev

高頻濺射刻蝕

等離子刻蝕

反應離子刻蝕

離子束刻蝕

反應離子束刻蝕

電子束刻蝕

X 射線曝光

表麵改性(不改變表麵厚度)

離子注入

數 kev~1000kec

活性離子衝擊離子氮化

離子注入

          現就其幾個主要應用方麵做一簡單介紹。首先在光學方麵,一塊光學玻璃或石英表麵上鍍一層或幾層不同物質的薄膜後,即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預期比例的反射或透射材料,也可以作成對某種波長的吸收,而對另一種波長的透射的濾色片。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜茉莉,都很需要。增透膜則大量用於照相和各種激光器開始、一直到新型建築物的大窗鍍膜玻璃,都很需要。增透膜則大量用於照相機和電視攝象機的鏡頭上。在電子學方麵真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為製備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器,約瑟夫遜器件、電荷耦合器件( CCD )也都甬道各種薄膜。在顯示器件方麵,錄象磁頭、高密度錄象帶以及平麵顯示裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法製備。在元件方麵,在真空中蒸發鎳鉻,鉻或金屬陶瓷可以製造電阻,在塑料上蒸發鋁、一氧化矽、二氧化鈦等可以製造電容器,蒸發硒可以得到靜電複印機用的硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以製造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發還可以用於製造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。此外還可以對珠寶、鍾表外殼表麵、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜,以及采用濺射鍍或離子鍍對刀具、模具等製造超硬膜。近兩年內所興起的多弧離子鍍製備鈦金製品,如不鏽鋼薄板、鏡麵板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄杆等目前正在盛行。